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太陽(yáng)能鈣鈦礦電池激光刻蝕機，采用飛秒激光刻蝕設備適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳NiOx、金、銀、碳粉等導電金屬、氧化物材料激光刻蝕。也可針對玻璃、硅片、氧化鋯陶瓷等材料超細線(xiàn)寬激光刻蝕、劃線(xiàn)、刻槽。
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太陽(yáng)能鈣鈦礦電池激光刻蝕機，采用飛秒激光刻蝕設備適用于ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎳NiOx、金、銀、碳粉、銅、鋁等導電金屬、氧化物材料激光刻蝕。也可針對玻璃、硅片、氧化鋯陶瓷等材料超細線(xiàn)寬激光刻蝕、劃線(xiàn)、刻槽。
同時(shí)，適用于其他多層材料超細線(xiàn)寬激光刻蝕加工，如不銹鋼網(wǎng)上的PI膜刻蝕、玻璃基材上PI膜刻蝕、不銹鋼光柵劃線(xiàn)等應用。
設備簡(jiǎn)介
設備采用固體激光器，激光波長(cháng)1030nm，適合對導電玻璃與鍍層進(jìn)行精細刻線(xiàn)；采用自主研發(fā)的控制軟件、直接導入CAD 數據進(jìn)行激光刻蝕，操作簡(jiǎn)單，方便快捷；通過(guò)軟件實(shí)時(shí)調節振鏡與直線(xiàn)電機、電動(dòng)升降工作臺的設計，加上真空吸附托盤(pán)裝置，能有效地解決激光刻蝕機在加工運行中的平穩性；采用獨特除塵系統設計，能保證玻璃與工作平面的清潔，保證激光刻蝕過(guò)程中無(wú)殘留。
設備集數控技術(shù)、激光技術(shù)、軟件技術(shù)等光機電高技術(shù)于一體，具有高靈活性、高精度、高速度等先進(jìn)制造技術(shù)的特征?？纱蠓秶鷥冗M(jìn)行各種圖案，各種尺寸的精密、高速刻蝕，并且能夠保證很高的產(chǎn)能，是一個(gè)可靠、穩定和具有高性能價(jià)格比的產(chǎn)品。
適用行業(yè)
玻璃、硅片、陶瓷、PET薄膜等基底上鍍膜激光刻蝕，常用于觸摸屏、光伏太陽(yáng)能電池、電致色玻璃、調光玻璃、發(fā)光玻璃、其它顯示屏等行業(yè)激光刻蝕加工。
整體說(shuō)明
主要構成：激光器、光路系統、運動(dòng)系統、控制系統、 定位系統、 抽塵系統、 真吸附空系統等組成。
主要技術(shù)參數
型號 | ET1260-FF鈣鈦礦電池激光刻蝕機 | |
激光器 | 飛秒、皮秒激光器，波長(cháng)1030nm/532nm | 納秒激光器，波長(cháng)1064nm |
加工幅面 | 1200*600mm/600*500mm/500*400mm（可定制加工幅面） | |
聚焦光斑 | ＜10μm | ＜20μm |
激光器頻率調節范圍 | 20-5000KHz | 100-500KHz |
刻蝕最小線(xiàn)寬 | ＜10 um | ＜20μm |
（最大可以去除95%以上的氧化物鍍層） | ||
整機精度 | ±15μm | ±20μm |
最小線(xiàn)間距 | ＜10μm | ＜20μm |
工作臺定位精度 | ±2um | |
工作臺重復精度 | ±1um | |
CCD自動(dòng)定位精度 | ±2um | |
刻蝕速度 | ＜4000mm/s | |
設備尺寸 | 1950mmL×1700mmW×1960mmH（根據實(shí)際尺寸而定） | |
設備重量 | 3500kg | |
功率消耗 | ＜3000W | |
可處理文件格式 | 標準CAD2004版DXF文件 | |
注：根據實(shí)驗室前期實(shí)驗性階段需要，武漢元祿光電針對性開(kāi)發(fā)出了實(shí)驗室階段小型激光刻蝕機，適用于100*100mm以下導電玻璃激光刻蝕、劃線(xiàn)應用，歡迎前來(lái)咨詢(xún)了解。
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FTO激光刻蝕
碳粉激光刻蝕
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